實驗室氣體的危險性

1.有部分氣體具有毒、強腐蝕等特性，其一旦泄漏，就可能會對工作人員及儀器設備造成傷害；

2.多種氣體在同一個環(huán)境下使用，如果有兩種會發(fā)生燃燒或爆1炸等強烈化學反應的氣體同時泄漏，就可能對工作人員以及儀器設備造成傷害；

3.多數(shù)氣瓶出口壓力1高可達15MPa，即150公斤/cm2，如果發(fā)生氣瓶口減壓裝置失靈，就有可能將一些部件激1射出去，其能量對人體或設備都具有致命性的傷害。

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實驗室氣路安裝要求

1、所有氣體管路都由高質量的、完全退火型、無縫連接的不銹鋼管組成。銅管只使用在氣體管路的末端，對氣體純度要求不是太嚴格的地方。

2、氣路安裝管道不得和電纜、導電線路同架鋪設。

3、易1燃氣體，如乙1炔需要和其他氣體分開單獨引入。氫氣管道若與其他可燃氣體管道平行敷設時，其間距不應小于0.5M；交叉敷設時間距不應小于0.25M。分層敷設時氫氣管道應位于上方。

4、壓縮空氣在管路上有過濾雜質和水分的凈化裝置，此凈化裝置需要并聯(lián)一路，用單獨的閥門隔離，以方便對過濾裝置進行維修。

5、高純氣體管路的連接為無縫焊接。連接到閥門或調節(jié)裝置時才可以使用接頭配件。

6、每個實驗室都要有單獨的控制閥、減壓閥和壓力表。

7、引到工作臺的氣體管路要安裝單獨的控制閥。工作臺上要均勻排放各種氣體的控制閥門。在氦氣管路前面建議安裝氣體凈化裝置。

8、每隔1.5米左右，氣體管路就需要有支架。另外根據(jù)氣體管路彎曲的半徑，設置合適的支架位置。所有彎曲處都要有支撐。氣路安裝管路所有的支架都要進行鍍鋅防腐處理。

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高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質相應越來越高，對氣體中雜質和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。2、經(jīng)濟性：建一個集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的試驗室空間，更換氣瓶時不需要切斷氣體，保證氣體的連續(xù)供應。

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